第414章 只能先睁一只眼闭一只眼（第2页）
缺点一是对能量比较敏感。。
在光刻机工作过程中，必须严格控制光源的能量，也就是光长度，以保证光刻胶的感光度。对紫外光和深紫外光尤其敏感。
缺点二是对化学溶剂耐受性较弱。
在光刻机加工的过程中，有些生产步骤需要使用化学溶剂，清除未暴露部分残留的光刻胶。这一步非常关键。
该清除的部分，要是清理不干净，再继续光刻的时候，就容易造成漏刻，就会导致芯片报废。不该清除的部分，是被清除了，或者膨胀了，就会导致不该雕刻的部分雕刻了，或者变形。
同样会报废芯片。因此。
使用光敏聚合物制作的光刻胶，对化学溶剂要求也非常高，各种物质的配比必须严格按照要求。只要有一点不对，一批芯片就报废了。
缺点三是机械性能差，包括机械强度和耐磨性。
有一些芯片加工的时候，中间的加工环节，有可能会施加一定程度的物理压力，或简单打磨。这种类型的芯片，就不适合使用聚合物光刻胶。
缺点四是稳定性差。
强光照射、温度骤变、气密性不好，都有可能导致聚合物光刻胶变质，储存环境要求比较高。有些时候。
聚合物光刻胶轻微变质，从物理性状上根本看不出来，颜色不变，味道不变，会被误认为是好的。但是。
进了光刻机，实际加工的时候，就会出现问题，容易导致一批芯片报废，甚至影响光刻机。
这才是最糟糕的。
这些缺陷，都是聚合物本身的缺陷，根本无法改变。只能先用着。
继续研更好的光刻胶。
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第二代光刻机，目前只是初级产品，还有待进一步升级，新型光刻胶就是重点升级目标之一。第二代光科技刚研究出来，就被列入了国家机密。
全部知情人，都签署了最高等级的保密协议。当然。
这样的人并不多。
除了在场的院士们，就没有多少了。
并不是说研、生产第二代光刻机的时候，参与者人数不多。实际上，参与的人数非常多。
但是。
参与人不等于知情人。
很多人，为第二代光刻机生产零件的时候，只知道要生产什么零件，不知道零件用于光刻机。
像他们这些人，只是签署了普通保密协议。就算他们泄密，也没有秘密可泄。
万兴邦研究第二代光刻机的时候，全世界各国都在研究光刻机，很多国家都投入了巨额的费用。他们都不傻。
都知道芯片在未来的作用。
要是自己国家没有光刻机，依靠从华夏进口，肯定要被华夏限制。万一出事儿。
断了他们的光刻机供应，看了他们的芯片供应，他们的展可能就要停滞，必须研究光刻机!就算不能实现国产化。
也必须实现主体国产化。
万兴邦也知道各国都在研究，大掌柜等人也都知道，大家都不着急。原因很简单。
和光刻机有关的技术，能申请专利的，都申请了专利，不能申请专利的，最高等级的绝密。要么不容易研究出来。
要么研究出来，现专利早已经被申请了，就算研究出来了，也不能用，除非获得使用许可。很多时候。
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