第266章（第1页）
第266章
审判场上
看着缓慢加载进度的叶四海，他的心头浮现出了一抹难言的紧张之色。
这份文件，真的会是当初自己看到的那份光科技技术图纸吗？
当年发生的一切，真的像是江逸所说的一样吗？
望着加载进度越来越接近“100%”叶四海能感觉到自己的心跳声越来越快，越来越急促！
“90%...91%...92%...93%...”
叶四海突然望了一眼身旁的黑衣男子，打量着他的身形，叶四海突然感到了一抹眼熟。
他已经知道了对方的身份，是当年的国安局成员孙维，也是冒死将光刻机技术图纸送回国内的那个人！可是，自己究竟是在什么地方，见过他呢？
叶四海感觉自己好像想起了什么，然而具体是什么，却又说不出来。
这种抓不住思绪的感觉，让他有些迷茫。
终于。
“99%....100%！”
在迟迟等待了许久之后，漫长的文件加载时间，总算是走到了尾声！
伴随着“100%”这个数字出现在了屏幕上，这份文件的全貌，一览无余地摆在了叶四海的面前！而在看到他的第一眼，叶四海的瞳孔便是瞬间一震！
他的表情，也是骤然变了！
“为了实现3nm工艺，光刻机需要使用极紫外（EUV）光源，其波长为13.5nm，比目前使用的193nm光源短了14倍。”
“EUV光源可以提供更高的分辨率和更低的线边粗糙度，但也带来了更多的技术挑战，如光源稳定性、光学元件损耗、掩模缺陷等。此外，3nm工艺还需要采用多重曝光（MEP）和自对准四极（SAQP）等方法，以实现更细致的图案划分和对齐....”
叶四海的语速越来越快，声音也变得越来越急促！
“我设想出了一种基于EUV光源和MEP+SAQP方法的3nm光刻机技术方案，首先采用基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源，其功率达到250W，可满足每小时曝光2000片硅片的需求。”
“同时，采用闭环反馈控制系统，实时监测和调节光源参数，保证其稳定性和均匀性...”
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